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    光刻機物鏡主動阻尼接口設計及測量系統布局

    葛黎黎; 周暢; 朱岳彬 上海微電子裝備(集團)股份有限公司; 上海201203
    • 光刻機
    • 主動阻尼接口
    • 測量系統布局

    摘要:提出一種光刻機物鏡主動阻尼接口方案及測量系統布局方案,采用有限元仿真方法評估了在工作臺質心變化及動態沖擊狀態下物鏡內部相對靜變形及動態響應滿足指標需求;結合測量系統布局設計了工作臺水平向及垂直向補償策略,實現了物鏡至測量系統間的相對靜變形及動態響應滿足指標需求;采用機電聯合仿真方法評估了物鏡主動阻尼方案幅值衰減滿足指標需求并通過現場實物開/閉環傳函測試驗證了仿真的準確性。

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    電子工業專用設備

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    主管單位:中國電子科技集團公司;主辦單位:中國電子科技集團公司第四十五研究所

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