硅晶片激光標識工藝參數的研究

摘要：介紹了應用于硅晶片激光標識的激光打標系統結構,并以光纖振鏡式激光打標機為例,探索了不同打標工藝參數的選擇對晶片激光標識效果的影響。采用單因素實驗法分別研究了不同激光打標功率、打標速度和打標頻率對硅片打標效果的影響,并分析了其影響其打標效果的原理。通過目檢和金相顯微鏡對激光標識進行觀察,確定了最佳的打標工藝,最終得到了優化的打標工藝即采用激光額定功率的45%,頻率為25kHz,打標速度為150mm/s,可得到標識清楚、深淺一致、不損傷晶片特性的激光標識。