碳氧化硅過(guò)渡層對(duì)玻璃基DLC薄膜性能的影響

摘要：采用射頻-直流磁控濺射法,首先通過(guò)不同沉積時(shí)間在普通玻璃基底表面得到了不同厚度的碳氧化硅過(guò)渡層,然后在過(guò)渡層上沉積DLC薄膜。采用X射線衍射儀(XRD)、共焦顯微拉曼光譜儀(Raman)、場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(SEM)、全自動(dòng)顯微硬度儀、紫外可見(jiàn)分光光度計(jì),研究了不同沉積時(shí)間下碳氧化硅層對(duì)DLC薄膜的結(jié)構(gòu)組成、表面形貌、表面硬度、可見(jiàn)光區(qū)域內(nèi)透過(guò)率性能的影響。結(jié)果表明,隨著沉積碳氧化硅層時(shí)間的增加,DLC薄膜樣品硬度先增大后減小,可見(jiàn)光區(qū)平均透過(guò)率逐漸下降;當(dāng)沉積過(guò)渡層時(shí)間為5 min時(shí),DLC薄膜樣品的玻璃硬度值最大(795 HV),相比未鍍膜的玻璃基片(610 HV),硬度值增加了30. 33%,可見(jiàn)光區(qū)域內(nèi)平均透過(guò)率為58. 47%。