離子后處理對(duì)TiO2光學(xué)薄膜及損傷特性的影響

摘要：為了進(jìn)一步提高TiO2薄膜的光學(xué)特性和激光損傷閾值,采用電子束蒸發(fā)技術(shù)在K9玻璃上沉積了單層TiO2薄膜,并用Ar/O混合等離子體對(duì)樣品進(jìn)行后處理。通過(guò)研究薄膜光譜特性、表面缺陷密度、薄膜表面形貌、薄膜損傷閾值以及薄膜損傷形貌,分析了等離子體后處理時(shí)間對(duì)TiO2薄膜激光損傷特性的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,隨著等離子體后處理時(shí)間的增加,薄膜折射率及致密度提高,物理厚度減少,表面粗糙度下降,表面缺陷密度先減少后增加;在1064nm激光輻射下,TiO2薄膜的激光損傷閾值從未經(jīng)等離子后處理的5.6J/cm2提升至后處理20min的9.65J/cm2,提升幅度高達(dá)72.3%,因此能夠更廣泛更穩(wěn)定地應(yīng)用在激光器中。