首頁 > 期刊 > 自然科學與工程技術 > 工程科技II > 儀器儀表工業 > 光學精密工程 > 離子后處理對TiO2光學薄膜及損傷特性的影響 【正文】
摘要:為了進一步提高TiO2薄膜的光學特性和激光損傷閾值,采用電子束蒸發技術在K9玻璃上沉積了單層TiO2薄膜,并用Ar/O混合等離子體對樣品進行后處理。通過研究薄膜光譜特性、表面缺陷密度、薄膜表面形貌、薄膜損傷閾值以及薄膜損傷形貌,分析了等離子體后處理時間對TiO2薄膜激光損傷特性的影響。實驗結果表明,隨著等離子體后處理時間的增加,薄膜折射率及致密度提高,物理厚度減少,表面粗糙度下降,表面缺陷密度先減少后增加;在1064nm激光輻射下,TiO2薄膜的激光損傷閾值從未經等離子后處理的5.6J/cm2提升至后處理20min的9.65J/cm2,提升幅度高達72.3%,因此能夠更廣泛更穩定地應用在激光器中。
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