汞離子印跡聚合物的制備及性能研究

摘要：采用水合反應法,將功能單體、模板分子、螯合劑、交聯劑等在引發劑作用下進行聚合反應,制成膜包裹在大孔樹脂表面,制備出汞離子印跡聚合物(M-SIIP-S4)。采用紅外光譜、表面孔徑分析、X-衍射對其結構進行表征。將M-SIIP-S4進行平衡吸附實驗,考察M-SIIP-S4對Hg^2+的吸附性能,優化了Hg^2+溶液初始質量濃度與吸附時間。結果表明,M-SIIP-S4在Hg^2+初始質量濃度為200mg/L,時間2.5h時,吸附量為57.6mg/g,吸附率達95%,M-SIIP-S4對幾種重金屬離子的吸附量大小順序為Hg^2+>Al^3+>Zn^2+>Ca^2+>Cu^2+。