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    非線性光學(xué)晶體探索的理論方法發(fā)展

    林哲帥; 吳以成 中國科學(xué)院理化技術(shù)研究所; 人工晶體研究發(fā)展中心; 中國科學(xué)院功能晶體與激光技術(shù)重點實驗室; 北京100190
    • 非線性光學(xué)晶體
    • 陰離子基團理論
    • 晶體探索和設(shè)計

    摘要:非線性光學(xué)晶體是一類重要的光電信息功能材料,是光電子技術(shù)特別是激光技術(shù)的重要物質(zhì)基礎(chǔ)。激光技術(shù)的發(fā)展與非線性光學(xué)晶體的發(fā)展密切相關(guān)。為加速探索新型優(yōu)秀非線性光學(xué)晶體的步伐,近六十年來旨在闡明其結(jié)構(gòu)-性能關(guān)系的理論方法不斷發(fā)展。本文圍繞非線性光學(xué)晶體理論方法發(fā)展方面的幾個重要階段,回顧并總結(jié)了陳創(chuàng)天教授研究思想的科學(xué)價值。

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    人工晶體學(xué)報

    • 預(yù)計1-3個月 預(yù)計審稿周期
    • 0.52 影響因子
    • 化學(xué) 快捷分類
    • 月刊 出版周期

    主管單位:中國建筑材料聯(lián)合會;主辦單位:中材人工晶體研究院有限公司

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