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    首頁 > 期刊 > 自然科學與工程技術 > 醫藥衛生科技 > 生物醫學工程 > 生物醫學工程研究 > 經顱磁刺激聯合經顱直流電刺激在大腦皮層電場分布的研究 【正文】

    經顱磁刺激聯合經顱直流電刺激在大腦皮層電場分布的研究

    王賀; 王欣; 靳靜娜; 李穎; 劉志朋; 殷濤 中國醫學科學院北京協和醫學院生物醫學工程研究所; 天津300192; 中國醫學科學院神經科學中心; 北京100730
    • 經顱磁刺激
    • 經顱直流電刺激
    • 電場分布
    • 仿真
    • simnibs

    摘要:經顱磁刺激(transcranial magnetic stimulation,TMS)和經顱直流電刺激(transcranial direct current stimulation,tDCS)均可用于調控大腦皮層的興奮性。此前兩種技術很少被用于同時刺激大腦皮層的兩個不同區域,近期研究表明,同時刺激大腦皮層兩個相互連接的區域可以提高刺激效果。為了確保應用安全性并給出實驗指導,本研究使用SimNibs進行仿真計算,研究同時應用TMS和tDCS時在大腦皮層產生的兩個電場之間的相互作用。結果表明,同時應用TMS和tDCS是安全的,且TMS和tDCS之間的相互作用受線圈和電極之間相對位置的影響。

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