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    經(jīng)顱磁刺激聯(lián)合經(jīng)顱直流電刺激在大腦皮層電場分布的研究

    王賀; 王欣; 靳靜娜; 李穎; 劉志朋; 殷濤 中國醫(yī)學科學院北京協(xié)和醫(yī)學院生物醫(yī)學工程研究所; 天津300192; 中國醫(yī)學科學院神經(jīng)科學中心; 北京100730
    • 經(jīng)顱磁刺激
    • 經(jīng)顱直流電刺激
    • 電場分布
    • 仿真
    • simnibs

    摘要:經(jīng)顱磁刺激(transcranial magnetic stimulation,TMS)和經(jīng)顱直流電刺激(transcranial direct current stimulation,tDCS)均可用于調(diào)控大腦皮層的興奮性。此前兩種技術很少被用于同時刺激大腦皮層的兩個不同區(qū)域,近期研究表明,同時刺激大腦皮層兩個相互連接的區(qū)域可以提高刺激效果。為了確保應用安全性并給出實驗指導,本研究使用SimNibs進行仿真計算,研究同時應用TMS和tDCS時在大腦皮層產(chǎn)生的兩個電場之間的相互作用。結果表明,同時應用TMS和tDCS是安全的,且TMS和tDCS之間的相互作用受線圈和電極之間相對位置的影響。

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