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    納米光刻雙光柵對(duì)準(zhǔn)莫爾條紋分析

    周紹林 唐小萍 胡松 馬平 陳旺富 嚴(yán)偉 中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所 成都610209 中國(guó)科學(xué)院研究生院 北京100039
    • 莫爾條紋
    • 建模
    • 納米光刻
    • 雙光柵調(diào)制

    摘要:為了給實(shí)際的納米光刻對(duì)準(zhǔn)工作提供理論研究基礎(chǔ),主要分析推導(dǎo)了莫爾條紋復(fù)振幅以及光強(qiáng)的空間分布規(guī)律。在理論分析的基礎(chǔ)上通過(guò)仿真,定量地確定了莫爾條紋復(fù)振幅分布的近似數(shù)學(xué)模型。分析表明,當(dāng)對(duì)準(zhǔn)光路通過(guò)掩模硅片上的兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記受到兩次光柵的調(diào)制并發(fā)生復(fù)雜的衍射和干涉時(shí),將形成有規(guī)律的、呈一定周期分布的莫爾條紋。并且當(dāng)兩光柵周期相近時(shí),莫爾條紋將表現(xiàn)為一個(gè)與兩光柵周期相關(guān)的空間拍信號(hào)。在近似模型中該拍信號(hào)主要由兩光柵基頻的乘積調(diào)制與振幅調(diào)制信號(hào)組成。兩調(diào)制信號(hào)的群峰值周期相等、與拍信號(hào)的群峰值周期一致,并且該周期相對(duì)于兩光柵周期被大幅度放大,因而具有很好的位移探測(cè)靈敏度,有利于納米級(jí)對(duì)準(zhǔn)的實(shí)際應(yīng)用。

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