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金屬Y和Cr共摻雜W2N薄膜的力學(xué)及摩擦學(xué)性能研究
蘇航; 顧廣瑞 延邊大學(xué)理學(xué)院; 吉林延吉133002
- w2n薄膜
- 磁控濺射
- 摻雜
- 力學(xué)性能
- 摩擦學(xué)性能
摘要：采用磁控濺射法,通過(guò)改變氬氮比率,在Si(100)襯底上成功制備了W2N薄膜,當(dāng)氬氮比率為20:6時(shí)薄膜的結(jié)晶性最好.為了改善W2N薄膜的力學(xué)和摩擦學(xué)性能,采用射頻和直流磁控共濺射方法分別在Si(100)和A304不銹鋼襯底上制備了軟質(zhì)金屬Y和硬質(zhì)金屬Cr共摻雜的W2N(Y-Cr:W2N)薄膜.在摻雜功率20~50 W范圍內(nèi),當(dāng)摻雜功率為30 W時(shí),薄膜具有最大硬度,為23.71 GPa,此時(shí)樣品的彈性模量為256.34 GPa;當(dāng)摻雜功率為20 W時(shí),薄膜的平均磨擦系數(shù)最小,為0.37.這表明,金屬Y和Cr的摻入使W2N薄膜的力學(xué)和摩擦學(xué)性能有了很大的改善.
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