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    首頁 > 期刊 > 自然科學與工程技術 > 信息科技 > 無線電電子學 > 液晶與顯示 > 激光化學氣相沉積法在TFT-LCD電路缺陷維修中的應用 【正文】

    激光化學氣相沉積法在TFT-LCD電路缺陷維修中的應用

    張偉; 陳小英; 馬永生; 付婉霞; 王磊; 周賀; 徐智俊; 王博; 阮毅松 福州京東方光電科技有限公司; 福建福州350300; 北京京東方傳感技術有限公司; 北京100176
    • 激光化學氣相沉積法
    • 缺陷維修
    • 電阻率

    摘要:為了維修TFT-LCD電路缺陷,利用激光化學氣相沉積法(LCVD)沉積鎢薄膜,討論成膜參數對基底損傷、鎢薄膜電阻率的影響。在空氣氛圍下,波長為351nm的脈沖激光誘導W(CO)6裂解成膜,通過聚焦離子束-掃描電子顯微鏡(FIB-SEM)觀察薄膜橫截面研究成膜參數對基底損傷的影響,再用高精度的電參數測試儀(EPM)測試不同參數下鎢薄膜電阻。控制變量法表明,激光功率或激光束光斑尺寸越大,薄膜基底損傷越大,但電阻率越小,且不沉積薄膜時高功率激光輻射也不會造成基底損傷;激光輻射速度越大,基底損傷越小,但電阻率越大。通過平衡工藝參數,得到了電阻率為0.96Ω/μm、對基底無損傷的鎢薄膜,成分分析表明此時W(CO)6已經完全裂解。

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