真空電子技術雜志簡介
《真空電子技術》雜志（CN:11-2485/TN）內容豐富、思想健康，1959年創(chuàng)刊，目前以雙月刊形式發(fā)行，刊物對外積極擴大宣傳，致力于提高雜志質量與影響。
《真空電子技術》主要刊登的是真空微波器件、離子器件真空開關器件等真空電子器件；CPT、CDT、PDP等顯示器件和光電器件；照明光源；真空獲得、測量、控制；氣體分析；表面技術；電子材料及特殊工藝等方面的文章。同時報導本行業(yè)的最新信息和成果。
真空電子技術發(fā)文方向
綜述、空間電推進專輯、理論與設計、工藝研究、整管研制
真空電子技術雜志特色
①文內標題要簡潔、明確，層次不宜過多。層次序號為：一、（一）、1、（1）、1）。
②參考文獻：參考文獻采用順序編碼制，參考文獻的序號以方括號加注于被注文字的右上角，內容按序號順序排列于文后，序號用方括號標注，按正文中出現(xiàn)的次序標引，文后沒有與文中引用相對應的參考文獻一律刪除。
③來稿應附3～8個關鍵詞。附200字左右的結構式摘要（理論研究不要寫成結構式摘要），內容包括目的、方法、結果、結論。
④投稿時請作者提供單位、職銜、通訊地址、郵編、手機號碼及電子郵箱等聯(lián)系方式，并請?zhí)峁┳髡吆喗楹图韧鶎W術成果發(fā)表情況。
⑤主題鮮明、觀點明確、內容新穎、論證嚴謹，符合學術規(guī)范，為作者本人的作品。
雜志收錄與榮譽
真空電子技術雜志數(shù)據(jù)統(tǒng)計注：由于版面限制，此處僅列出部分數(shù)據(jù)信息，了解詳情請聯(lián)系客服 了解詳情 >>
年度期刊評價報告 (本刊綜合數(shù)據(jù)對比及走勢)
名詞解釋：
影響因子：指該期刊近兩年文獻的平均被引用率，即該期刊前兩年論文在評價當年每篇論文被引用的平均次數(shù)
被引半衰期：衡量期刊老化速度快慢的一種指標，指某一期刊論文在某年被引用的全部次數(shù)中，較新的一半被引論文刊載的時間跨度
期刊他引率：他引率是指，此期刊被引用次數(shù)中，被其他刊引用次數(shù)所占的比例
引用半衰期：指某種期刊在某年中所引用的全部參考文獻中較新的一半是在最近多少年時段內刊載的
平均引文率：在給定的時間內，期刊篇均參考文獻量，用以測度期刊的平均引文水平，考察期刊吸收信息的能力以及科學交流程度的高低
雜志被引半衰期、引用半衰期
雜志影響因子、被引次數(shù)
雜志發(fā)文量、期刊他引率
雜志平均引文率
真空電子技術雜志文章分期部分匯總
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