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    《激光與光電子學(xué)進展》雜志論文投稿方向是什么?

    來源:好投稿網(wǎng)整理 2025-05-20 11:50:54

    《激光與光電子學(xué)進展》雜志論文投稿方向:綜述、激光器與激光光學(xué)、光纖光學(xué)與光通信、光學(xué)設(shè)計與制造、材料、圖像處理、成像系統(tǒng)、光學(xué)器件等。

    想確定論文的投稿方向,可以參考以下方法:

    1.明確研究領(lǐng)域:通過查閱相關(guān)領(lǐng)域的權(quán)威文獻和綜述,了解當前研究的熱點和前沿方向,從而精準定位研究領(lǐng)域。

    2.參考已發(fā)表論文:可以利用學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫搜索相關(guān)論文,了解它們的投稿去向。

    3.查閱雜志官網(wǎng):仔細閱讀雜志官方網(wǎng)站上的投稿指南、欄目范圍和征稿啟事,確保雜志的收稿范圍與論文研究方向相符。

    4.咨詢導(dǎo)師和同行:向?qū)熁蛲姓埥蹋私馑麄兂M兜碾s志及原因。

    5.關(guān)注期刊的其他因素:選擇與論文質(zhì)量相匹配的雜志,同時考慮雜志的學(xué)術(shù)影響力。

    《激光與光電子學(xué)進展》雜志為北大期刊,由中國科學(xué)院主管,創(chuàng)刊于1964年,具有深厚的歷史底蘊與廣泛的學(xué)術(shù)影響力,該雜志影響因子為1.15,這一數(shù)據(jù)表明該雜志在工業(yè)領(lǐng)域具有較高的影響力和學(xué)術(shù)價值。

    雜志往年影響因子、被引次數(shù)統(tǒng)計表

    關(guān)于影響因子的名詞解釋

    影響因子:指該期刊近兩年文獻的平均被引用率,即該期刊前兩年論文在評價當年每篇論文被引用的平均次數(shù)。

    綜合影響因子:是以基礎(chǔ)研究、技術(shù)研究、技術(shù)開發(fā)類科技期刊及引證科技期刊的人文社會科學(xué)基礎(chǔ)研究、應(yīng)用研究和工作研究期刊作為期刊綜合統(tǒng)計源文獻計算,被評價期刊前兩年發(fā)表的可被引文獻在統(tǒng)計年的被引用總次數(shù)與該期刊在前兩年內(nèi)發(fā)表的可被引文獻總量之比。

    審稿周期:如果需要在特定時間內(nèi)發(fā)表論文,選擇審稿周期較短的期刊會更為合適。《激光與光電子學(xué)進展》雜志審稿周期為預(yù)計1-3個月。

    讀者群體:根據(jù)論文的研究類型,選擇適合的期刊,以擴大論文的傳播范圍。該雜志讀者群體包括工業(yè)科研人員,工業(yè)管理者,工業(yè)研究者或熱心工業(yè)事業(yè)的同志。?

    《激光與光電子學(xué)進展》雜志作為國內(nèi)知名的工業(yè)類期刊,多個重要數(shù)據(jù)庫收錄,如北大期刊(中國人文社會科學(xué)期刊)、CSCD 中國科學(xué)引文數(shù)據(jù)庫來源期刊(含擴展版)、統(tǒng)計源期刊(中國科技論文優(yōu)秀期刊)、知網(wǎng)收錄(中)、維普收錄(中)、萬方收錄(中)、國家圖書館館藏、上海圖書館館藏等,體現(xiàn)了其較高的學(xué)術(shù)水平和影響力。

    總之,該雜志以其豐富的欄目設(shè)置、嚴謹?shù)膶W(xué)術(shù)態(tài)度和廣泛的讀者群體,成為工業(yè)領(lǐng)域的重要學(xué)術(shù)平臺,為深化工業(yè)改革、繁榮工業(yè)科學(xué)貢獻了重要力量。

    激光與光電子學(xué)進展雜志文章分期部分匯總

    • 星地下行鏈路中多孔徑相干光接收機性能分析

      張曉玉; 崔晟; 劉德明; 江陽
    • 關(guān)于數(shù)據(jù)中心間彈性光網(wǎng)絡(luò)中虛擬網(wǎng)絡(luò)功能配置的問題建模及優(yōu)化算法

      宣賀君; 魏士偉; 郭華平; 郭頌; 馮巖
    • LED非線性信道下基于對稱恢復(fù)的ACO-OFDM性能研究

      劉曉爽; 李建鋒; 李建科; 孫立輝; 黃治同; 康紅俊
    • 圖像多尺度密集網(wǎng)絡(luò)去模糊模型

      宋昊澤; 吳小俊
    • 一種彩色圖像的直線段檢測算法

      劉雨晴; 鐘寶江; 鄭行家

    聲明:本信息依據(jù)互聯(lián)網(wǎng)公開資料整理,若存在錯誤,請及時聯(lián)系我們及時更正。

    主管單位:中國科學(xué)院

    主辦單位:中國科學(xué)院上海光精密機械研究所

    國際刊號:1006-4125

    國內(nèi)刊號:31-1690/TN

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